LOGO INSTITUCIONAL
Generic selectors
Exact matches only
Search in title
Search in content
Post Type Selectors
Search in posts
Search in pages

CNR junto a instituciones de educaci贸n superior hacen el lanzamiento de RED Centro de Apoyo a la Tecnolog铆a y la Innovaci贸n (CATI)

Este d铆a el Director Ejecutivo del Centro Nacional de Registros, Camilo Trigueros junto al Director del Registro de la Propiedad Intelectual, Salvador Lizama, realizaron el lanzamiento de la RED CATI con el objetivo de fortalecer la inscripci贸n de propiedad intelectual y registro de patentes en el pa铆s.

Con esta iniciativa la Universidad Evang茅lica de El Salvador (UEES), el Instituto Especializado de Educaci贸n Superior Escuela de Comunicaci贸n M贸nica Herrera (ECMH), Escuela Superior de Econom铆a y Negocios (ESEN), la Universidad Dr. Jos茅 Mat铆as Delgado (UJMD) y la Universidad de El Salvador (UES), recibir谩n apoyo en temas de propiedad intelectual.

Estas instituciones de educaci贸n superior formaran parte de la Red CATI, apost谩ndole al desarrollo de nuestro ecosistema de innovaci贸n nacional, a trav茅s  de diferentes segmentos como docentes, investigadores, emprendedores y sobre todo a la comunidad estudiantil, concientizando y promoviendo el uso del sistema de propiedad intelectual en El Salvador para  el crecimiento econ贸mico.

Los beneficios que tendr谩n las universidades al estar en esta red son la formaci贸n especializada del personal asignado para brindar el servicio de la Red, el acompa帽amiento y seguimiento en la puesta en marcha del CATI, la gesti贸n a trav茅s de la OMPI de capacitaciones puntuales en materia de propiedad intelectual y聽 capacitaciones generales en temas de propiedad intelectual a la comunidad estudiantil y docente, el acceso a las bases de datos del programa de acceso a la investigaci贸n para el desarrollo y la innovaci贸n (ARDI) y el programa de acceso a la informaci贸n especializada sobre patentes (ASPI), las cuales estar谩n disponibles en el CATI central y el acercamiento entre el sector PYME y comunidad estudiantil, en ejecuci贸n de horas sociales, pasant铆as y pr谩cticas profesionales, entre otros.

Publicado el 13-10-2022.